加快靈敏穩(wěn)定的方法的開發(fā)速率

您不會(huì)再受到與基質(zhì)效應(yīng)相關(guān)的復(fù)雜因素和不確定性的干擾。得益于RADAR™，方法開發(fā)成為一種智能化過(guò)程，它將定量數(shù)據(jù)與定性數(shù)據(jù)相結(jié)合以直觀顯示完整樣品，從而在樣品制備和色譜方法開發(fā)過(guò)程中實(shí)現(xiàn)了數(shù)據(jù)導(dǎo)向性決策。

在RADAR模式下，您既可監(jiān)測(cè)樣本中的基質(zhì)干擾物、代謝物、雜質(zhì)和降解產(chǎn)物，同時(shí)又可準(zhǔn)確對(duì)目標(biāo)化合物定量。

確保結(jié)果始終正確

盡可能增加處理量，同時(shí)又不會(huì)降低數(shù)據(jù)

對(duì)UPLC®的典型窄峰（峰寬2 - 3秒）進(jìn)行準(zhǔn)確定量需要較高的采集速度以確保數(shù)據(jù)質(zhì)量。不論您在同一方法中只分析一種化合物，還是分析數(shù)百種化合物，T-Wave碰撞室均可確保UPLC在色譜分析速度和分離度方面的優(yōu)勢(shì)得到充分發(fā)揮。

不過(guò)時(shí)的創(chuàng)新技術(shù)

Xevo系列的通用離子源結(jié)構(gòu)擁有廣泛的電離技術(shù)范圍以及剛剛面世的電離技術(shù)創(chuàng)新成果。您在試驗(yàn)選項(xiàng)方面將擁有無(wú)限選擇。當(dāng)您需要某些選項(xiàng)而又時(shí)間緊迫時(shí)，可在離子源之間進(jìn)行快速轉(zhuǎn)換，幾分鐘即可使用。

精益求精 — 優(yōu)質(zhì)技術(shù)

UniSpray™是您擴(kuò)展儀器功能所必需的首要關(guān)鍵技術(shù)，與其它單一技術(shù)相比，該技術(shù)能夠電離種類更多的化合物。更豐富的化合物種類覆蓋范圍，加上極易操作的離子源，UniSpray讓您的實(shí)驗(yàn)室無(wú)需更換離子源或探頭即可分析比以前種類更多的化合物。這樣就減少了更換儀器部件的時(shí)間，讓用戶可以將更多的時(shí)間用于獲取分析結(jié)果