簡(jiǎn)要描述:高分辨X射線衍射儀其可靠性的增強(qiáng)及性能的改進(jìn)提高了分析能力,提供一體化解決方案來(lái)滿足不同需求和應(yīng)用X射線衍射儀X-Ray分析力提高一體化高分辨率
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儀器種類 | 探測(cè)器及其他設(shè)備 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 綜合 |
X射線衍射儀X-Ray分析力提高一體化高分辨率
高分辨X射線衍射儀其可靠性的增強(qiáng)及性能的改進(jìn)提高了分析能力,提供一體化解決方案來(lái)滿足不同需求和應(yīng)用:
• 半導(dǎo)體和單晶晶圓:倒易空間探索、搖擺曲線分析
• 多晶固體和薄膜:織構(gòu)分析、反射測(cè)量
• 超薄薄膜、納米材料和非晶層:掠入射物相鑒定、面內(nèi)衍射
• 非常溫條件下的測(cè)量:隨溫度和時(shí)間變化的峰高
推動(dòng)薄膜領(lǐng)域的材料研究材料研究的進(jìn)步給我們的生活方式帶來(lái)了巨大變化。例如,材料技術(shù)推動(dòng)了通信技術(shù)的發(fā)展,而這些技術(shù)如今早已成為我們?nèi)粘I钪忻懿豢煞值囊徊糠?。薄膜結(jié)構(gòu)是電子、光學(xué)、機(jī)械和能源應(yīng)用的許多高級(jí)功能設(shè)備的核心所在。多層材料現(xiàn)在,生長(zhǎng)技術(shù)允許多層結(jié)構(gòu)沉積,其中各層的厚度可以從微米級(jí)別低至單分子層級(jí)別。高級(jí)薄膜設(shè)備所涉及的典型材料包括半導(dǎo)體、金屬合金、介電材料和化合物。在各種薄膜結(jié)構(gòu)中,通常需要進(jìn)行多次測(cè)量來(lái)分析各種屬性,比如層厚、晶相和合金成分、應(yīng)力、結(jié)晶度、密度和界面形態(tài)等。研究和監(jiān)測(cè)結(jié)構(gòu)特性為了設(shè)計(jì)、理解和改進(jìn)新器件,在多步制程的每個(gè)階段都必須測(cè)量關(guān)鍵的結(jié)構(gòu)特性。在薄膜器件的研究、開發(fā)和生產(chǎn)中,對(duì)薄膜性能的監(jiān)測(cè)是不可少的一步。
X射線衍射儀X-Ray分析力提高一體化高分辨率
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